Worked on verification of thin mask EUV flow with tunable flare tolerance. In region where difference if flare can be tolerated, images do not differ more than expected (~ 0.2 -0.3 nm). Very few wider XOR image shapes detected at corners. In area selected for reopc, the number and size of deviations are significantly elevated. This general trend fits expectations. What is unclear at the moment is the absence of strong correlation between regions with contrast flare and max values of image discrepancy in areas selected for reopc.
Plan to present the results on next EUV meeting. Then will start writing the spec. )))
Только зарегистрированные пользователи могут голосовать, комментировать фотографии и подписаться на новые комментарии. Зарегистрируйтесь - это не займет много времени - и присоединяйтесь к нам!
Увы. она и не отмечена особо. Любой, тут на форуме, знает (ночью разбуди) что фотография это светопись, но на практике мало таких работ, и у меня в том числе .....